主要用途MAIN PURPOSE

?適用于O100mm以下，厚為0~5mm各種基片的曝光。

?由于采用了高均勻性的蠅眼曝光頭，非常理想的三點找平機構(gòu)，穩(wěn)定可靠的真空壓緊曝光，使本機的曝光分辨率和曝光均 勻性都大為提咼。

?版不動，片動的又寸準方式，保證了導軌自重和受力方向的一致性，加之承片臺升降采用無間隙滾珠直進導軌和三點式找平 機構(gòu)的成功應(yīng)用，使本機漂移特小，對準精度高，對準速度快。

?電控采用PLC控制，各主裳元件（如電磁閥等）采用迸口件，高穩(wěn)定可靠是本機的又一優(yōu)點。

主要技術(shù)參數(shù) MAIN TECHNICAL PARAMETERS

?適用于04", 03",基片，也適用于非規(guī)則基片，*小為5eex5ee。（用戶事先提出），基片厚度0~5mm均可。

?具有相對應(yīng)的版夾盤,口5” x5”、口4〃 x4" "、口25” x2.5”。

?套刻手柄：X, 丫粗調(diào)±3efti，細調(diào)±0.3ee。9粗調(diào)±15。，細調(diào)±3。

?對準精度±0.5卩E

?掃描觀察±15ee

配置蠅眼曝光頭，光的不均勻性w ±4% （O100mm范圍內(nèi)），使用GCQ200Z型超高壓直流球形汞燈，風冷、光強可調(diào)， **出射光束為＜Pl17mrn_o

?采用奴目分離視場顯微鏡，放大倍數(shù)50X?375X（也可采用奴CCD加液晶監(jiān)視器來顯示，放大倍數(shù)30X?189X或 67.5X ?420X）。